CVD Equipment CorpFRA CVD

CVD Оборудование Corp. занимается проектированием, разработкой и производством химического осаждения паров, газового контроля и других современных оборудования и технологических решений. Компания имеет штаб-квартиру в Центральном Ислипе, штат Нью-Йорк, и в настоящее время работает 113 штатных сотрудников. К сегментам компании относятся CVD/First Nano, SDC и CVD Materials. CVD/First Nano поставляет системы химического осаждения паров для использования в исследованиях, разработках и производстве аэрокосмических, медицинских компонентов, полупроводников, светоизлучающих устройств (СИД), аккумуляторных наноматериалов, углеродных нанотрубок, нанопроводов, солнечных элементов и ряда других промышленных применений. Сегмент SDC проектирует и производит сверхвысокие системы контроля за чистотой газа и химической доставки для процессов производства полупроводников, солнечных элементов, светодиодов, углеродных нанотрубок и нанопроводников. Сегмент CVD Materials включает в себя элементы и группы продуктов, такие как Tantaline и MesoScribe. Танталиновая обработка представляет собой диффузионно-связанный защитный слой тантала, образованный химическим осаждением паров на поверхности общих материалов.