CVD Equipment Corporation is engaged in developing, designing, manufacturing and servicing a range of chemical vapor deposition, gas control and other equipment and solutions. The Company’s segments include CVD/First Nano, SDC, and CVD Materials. The CVD/First Nano supplies chemical vapor deposition systems for use in the research, development and manufacturing of aerospace, medical components, semiconductors, light-emitting devices (LEDs), battery nanomaterial, carbon nanotubes, nanowires, solar cells, and a number of other industrial applications. The SDC segment designs and manufactures ultra-high purity gas and chemical delivery control systems for semiconductor fabrication processes, solar cells, LEDs, carbon nanotubes, and nanowires. The CVD Materials segment includes elements and product groups, such as Tantaline and MesoScribe. Tantaline treatment is a diffusion-bonded protective layer of tantalum formed by chemical vapor deposition on the surface of common materials.

CVD Оборудование Corp. занимается проектированием, разработкой и производством химического осаждения паров, газового контроля и других современных оборудования и технологических решений. Компания имеет штаб-квартиру в Центральном Ислипе, штат Нью-Йорк, и в настоящее время работает 113 штатных сотрудников. К сегментам компании относятся CVD/First Nano, SDC и CVD Materials. CVD/First Nano поставляет системы химического осаждения паров для использования в исследованиях, разработках и производстве аэрокосмических, медицинских компонентов, полупроводников, светоизлучающих устройств (СИД), аккумуляторных наноматериалов, углеродных нанотрубок, нанопроводов, солнечных элементов и ряда других промышленных применений. Сегмент SDC проектирует и производит сверхвысокие системы контроля за чистотой газа и химической доставки для процессов производства полупроводников, солнечных элементов, светодиодов, углеродных нанотрубок и нанопроводников. Сегмент CVD Materials включает в себя элементы и группы продуктов, такие как Tantaline и MesoScribe. Танталиновая обработка представляет собой диффузионно-связанный защитный слой тантала, образованный химическим осаждением паров на поверхности общих материалов.

Frequently Asked Questions